Плазменная очистка
Компактные установки плазменной очистки идеально подходят для лабораторного размещения, служат для предварительного очищения монокристаллических подложек, оптических компонентов, от нано-размерных органических загрязнений, как пример, перед напылением эпитаксиальной плёнки, что позволяет добиться наилучшего её качества. Для работы используется воздух, кислород или аргоновая плазма.
Некоторые установки могут использоваться в качестве систем плазменного травления при более высокочастотных мощностях.
Плазменная обработка воздействует только на поверхность материала, не изменяя его физических свойств, и исключает риск повреждения, чувствительных к высоким температурам, материалов.
Установка плазменной очистки с кварцевой камерой и вакуумным насосом – PCE-8
Система плазменной очистки — GSL1100X-PJF
