Напыление
Системы вакуумного термического и магнетронного напыления или осаждения (англ. аббревиатура PVDпроцесс).
Это процесс, в котором материал от источника теплового испарения достигает подложки без столкновения с молекулами газа в пространстве, между источником и подложкой, либо с самым минимальным их столкновением. Вакуумная среда обеспечивает снижение газового загрязнения в системе напыления до минимального уровня.
Вакуумное напыление используется в технологиях полупроводниковых, тонкоплёночных схем, в формировании оптических интерференционных покрытий, диэлектрических, проводящих и пр.
Системы магнетронного напыления возможны в исполнении как с одним магнетроном, так и с несколькими ВЧ/DCмагнетронами.
Мы так же поставляем мишени для напыления разного диаметра и из различных металлов.