Установка плазменной очистки с кварцевой камерой и вакуумным насосом – EQ-PCE-8
PCE-8 — установка плазменной очистки с кварцевой камерой и регулируемой высокочастотной мощностью. Используется для очистки и удаления нано-размерных органических загрязнений на подложках и полупроводниковых пластинах с использованием воздуха, кислорода или аргоновой плазмы. Максимальная скорость удаления около 20нм/мин. Идеально подходит для предварительной очистки монокристаллов перед эпитаксиальным напылением пленок для достижения наилучшего качества.
Технические характеристики:
|
Входная мощность
|
220В, 50Гц
|
|
Высокочастотная мощность
|
Регулируемая 0-80Вт
Частота: 13.56мГн
|
|
Камера высокой чистоты
|
216 х 209 х 318 (внеш. диам. х внутр. диам. х Д), мм
Алюминиевый фланец
Смотровое окно (60мм)
Экран от излучения с нулевой утечкой
|
|
Панель управления
|
153 мм сенсорный экран для автоматического регулирования уровня вакуума, расхода газа, уровня мощности
Встроенный канал массового расходометра (0-500мл/мин) для точной регулировки расхода газа
|
|
Вакуумный насос и клапан
|
Высокопроизводительный ротационный вакуумный насос с выхлопным фильтром, с адаптером KF25В и зажимом
Предельное давление 50мторр
|
|
Инертный газ
|
Возможно использовать N2, Ar, воздух и смешанные газы, в зависимости от типа материала для обработки.
Запрещено использование воспламеняющихся газов.
|
|
Габариты ДхШхВ
|
620 х 450 х 600, мм
|
|
Вес нетто
|
37 кг с насосом 48 кг
|