Установка плазменной очистки GSL1100X-PJF
GSL1100X-PJF — компактная система для обработки поверхности плазмой («струйным потоком»). Установка состоит из генератора, соединенного с плазменной головкой гибким шлангом. Поток плазмы легко активируется и настраивается. Очистка происходит при естественных условиях, вакуума не требуется. Установка иделально подходит для предварительной очистки поверхности подложек, пластика, оптических компонентов и др.
Особенности:
Высокая производительность;
- Для работы не требуется вакуум и специальный газ;
- Ручная обработка или встраиваемая в линию;
- Легкий вес и компактный размер;
- Низкая стоимость и простое управление.
Технические характеристики:
Электропитание: 220 В, 50 Гц;
Мощность: < 1 кВт;
Выходная частота: 20-23 МГц;
В комплекте две плазменные головки: круглая(10-12 мм) и прямоугольная (15-18 мм);
Давление газа — 0,28 МПа/мин;
Рабочий газ — азот, аргон, гелий и смешанные газы (не взрывоопасные);
Вакуумный насос и клапан: пропускная способность — 120 л/мин, давление — 30 мторр;
Инертный газ: азот, аргон и смешанные газы;
Эксплуатационные условия: температура <42°C, критическая относительная влажность <40°CRH, газ должен быть не взрывоопасным;
Рабочее давление плазмы: от 0,05 до 0,07 МПа;
Размеры: 380х210х500 мм;
Вес: 10 кг;