Настольная система УФ-Озоновой очистки – EQ-PCE-44-LD
EQ-PCE-22-LD – настольная система очистки методом совместного воздействия ультрафиолетового излучения и озона, используется для очистки всех типов монокристаллических подожек. Идеально подходит для удаления фоторезиста, улучшая смачиваемость поверхности, для очистки SEM и TEM образцов, активации полимеров и т.д.
Высокоэффективна для некислотной, сухой, неразрушающей атомной очистки и удаления органических загрязнений используя интенсивность УФ излучения 185нм и 254нм.
При комнатной температуре, волны длиной 185нм вырабатывают озон, в то время как 254нм волны возбуждают органические молекулы на поверхности. Данная комбинация производит скоростное разрушение и уничтожение органических загрязнений.
Технические характеристики:
|
Напряжение
|
220В, 50Гц
Мощность УФ лампы: 55Вт макс.
|
|
УФ лампа
|
Цельнометалическая ртутная УФ лампа двухволновая
Длины волн: 254нм и 185нм
Жизненный цикл эксплуатации лампы: 2500 часов
Область УФ излучения: 100 х 100 мм
Пиковая интенсивность UV: 4.6 милливат/см2
|
|
Среда эксплуатации
|
Только в закрытом помещении при температуре от +5 до +40
Макс. относительная влажность 80%
Напряжение в сети не должно превышать 10% от нормального.
|
|
Вес нетто
|
4 кг
|
|
Варианты применения
|
— Очистка всех типов монокристаллических оксидных подложек
— низкоароматических продуктов и нефти
— очистка образцов MEMS
Очистка поверхности подложек Si, Ge, GaAs и оксидно-кристаллических
— Оксидация поверхности легкометаллических материалов
И т.д.
|